基于EIT技术的二维头模型电特性研究

来源 :河北工业大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sdlzwzl
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介绍了一种新的医学图象重建技术 -- 电阻抗断层成像(EIT)技术,并用于头模型电阻抗特性的研究.本文给出了二维计算机模拟头模型,采用有限元方法进行正问题的求解,用简单反投影算法进行了图象的重建,成像结果与实际模型相近.
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