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介绍了同位素铁靶的制备技术，包括氧化铁的还原、铁粉的熔化和铁靶的制备。采用聚焦束溅射和滚轧制备技术能获得自支撑^56Fe靶的最小厚度分别为50和360μm/cm^2。
同位素铁靶制备技术
【摘 要】
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介绍了同位素铁靶的制备技术，包括氧化铁的还原、铁粉的熔化和铁靶的制备。采用聚焦束溅射和滚轧制备技术能获得自支撑^56Fe靶的最小厚度分别为50和360μm/cm^2。
【机 构】
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中国原子能科学研究院核物理研究所
【出 处】
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原子能科学技术
【发表日期】
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2002年4期
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