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简述目前微电子及半导体领域主流的光刻技术及其发展，介绍了目前主流的光刻技术有是紫外（UV）光刻技术、深紫外（DUV）光刻技术、极紫外（EUV）光刻技术和X射线（X-ray）光刻技术及它们的应用领域。同时探讨了光刻技术的发展和覆盖的范畴。
光刻技术的发展
【摘 要】
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简述目前微电子及半导体领域主流的光刻技术及其发展，介绍了目前主流的光刻技术有是紫外（UV）光刻技术、深紫外（DUV）光刻技术、极紫外（EUV）光刻技术和X射线（X-ray）光刻技术及它们的应用
【机 构】
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南京中电熊猫液晶材料科技有限公司
【出 处】
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电子世界
【发表日期】
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2014年24期
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