【摘 要】
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针对单晶硅片高精度研磨抛光中存在的问题 ,从摩擦学理论出发计算模拟了磨粒平均相对速度、研磨盘磨损的变化过程 ,揭示了运动参数对研抛的表面质量、纹理方向的影响规律 ,对
【机 构】
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针对单晶硅片高精度研磨抛光中存在的问题 ,从摩擦学理论出发计算模拟了磨粒平均相对速度、研磨盘磨损的变化过程 ,揭示了运动参数对研抛的表面质量、纹理方向的影响规律 ,对晶片研抛机运动参数的合理选择具有普遍的意义
Aiming at the problems existing in high-precision single-crystal silicon wafer polishing, the change process of the average relative velocity of the abrasive particles and the abrasion of the grinding disk was simulated from the tribology theory, and the influence of the movement parameters on the surface quality and the grain direction of the polishing was revealed The law has a universal significance for the reasonable choice of the motion parameters of the wafer polishing machine
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