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针对光刻机掩模台与工件台的运动同步性问题,采用主从控制结构,设计了滑模同步控制系统。直线电机和音圈电机构成粗动-精动双执行器结构以保证音圈电机不会达到位移饱和。在常规PID控制系统基础上增加了掩模台精动滑模同步控制器。根据扫描周期内掩模台和工件台的运动特点设计了时变滑模面,在同步性要求很高的曝光扫描时间段内逐渐增大时变滑模面中耦合项的系数,从而增强了同步控制的作用。滑模同步控制系统在保证原有系统跟踪精度和动态性能的前提下有效地减小了扫描时间段内的同步偏差。仿真结果表明,曝光扫描阶段内同步偏差明显减小。相对