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采用248nm KrF准分子激光直接刻蚀金属和半导体,在加工后的试件表面上观察到了横向影响区.将其定义为两个部分,通过各部分的大小和颜色变化情况来描述横向影响的程度,研究了它们与激光参数之间的关系.在实验结果的基础上,提出了减小横向影响区的措施和方法.
准分子激光直刻横向影响区实验研究
【摘 要】
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采用248nm KrF准分子激光直接刻蚀金属和半导体,在加工后的试件表面上观察到了横向影响区.将其定义为两个部分,通过各部分的大小和颜色变化情况来描述横向影响的程度,研究了
【机 构】
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华中科技大学
【出 处】
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激光技术
【发表日期】
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2005年2期
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