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半导体工艺技术ＷＤ９４５１７制作２５．４ｐｓＥＣＬ的深亚微米超自对准硅双极工艺＝Ｄｅｅｐｓｕｂｍｉｃｒｏｍｅｌｅｒｓｕｐｅｒｓｅｌｆ－ａｌｉｇｎｅｄＳｉｂｉｐｏｌａｒｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙｗｉｔｈ２５．４ｐｓＥＣＬ［刊，英］／Ｋｏｎａｋａ，Ｓ．…／／Ｉ...
半导体工艺技术
【摘 要】
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半导体工艺技术ＷＤ９４５１７制作２５．４ｐｓＥＣＬ的深亚微米超自对准硅双极工艺＝Ｄｅｅｐｓｕｂｍｉｃｒｏｍｅｌｅｒｓｕｐｅｒｓｅｌｆ－ａｌｉｇｎｅｄＳｉｂｉｐｏｌａｒｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙｗｉｔｈ２５．４ｐｓＥＣＬ［刊，英］／Ｋｏｎａｋａ，Ｓ．…／／Ｉ...
【出 处】
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微电子学
【发表日期】
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1994年05期
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