【摘 要】
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一、前言为了制备自吸收小、吸附均匀、β粒子计数效率高的4π薄膜源,电喷射制源技术近二十多年发展很快。但迄今为止,所看到的都是采用10000伏高压电源装置电喷射制源,因此
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一、前言为了制备自吸收小、吸附均匀、β粒子计数效率高的4π薄膜源,电喷射制源技术近二十多年发展很快。但迄今为止,所看到的都是采用10000伏高压电源装置电喷射制源,因此,电喷射制源技术受到了很大限制。能否在普通的高压电源(3500伏或3000伏)
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