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,Epitaxial Growth of Graphene on 6H-SiC (0001) by Thermal Annealing
【作 者】
：
【机 构】
：
National Synchrotron Radiation Laboratory,University of Science and Technology of China,Hefei 230029
【出 处】
：
中国物理快报（英文版）
【发表日期】
：
2009年8期
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