【摘 要】
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对不同成分的PCVD－Ti（CXN1－X）膜的组织结构及性能进行了研究。结果表明，Ti（CN）膜的高硬度、高致密组织和膜表面因吸附氧而形成的与TiN不同的表面结构是Ti（CN）膜性能优于TiN膜的重要因
【机 构】
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对不同成分的PCVD－Ti（CXN1－X）膜的组织结构及性能进行了研究。结果表明，Ti（CN）膜的高硬度、高致密组织和膜表面因吸附氧而形成的与TiN不同的表面结构是Ti（CN）膜性能优于TiN膜的重要因素。在冷挤压模上应用结果也表明，用PCVD法制备的Ti（CN）膜和TiC膜的使用效果要比TiN膜好得多。
The structure and properties of PCVD-Ti (CXN1-X) films with different compositions were studied. The results show that the surface structure of Ti (CN) film which is different from TiN due to its high hardness, high density and oxygen adsorption is an important factor for Ti (CN) film to outperform TiN film. The results of the application on the cold extrusion die also show that the Ti (CN) film and TiC film prepared by PCVD method are much better than TiN film.
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