三维复杂微系统的微立体光刻成型工艺

来源 :仪器仪表学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:woaini009
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介绍了一种具有更高加工分辨率且可直接成型3维复杂微系统的一次曝光型微立体光刻成型样机MicroSLer,及其配套专用光敏树脂Micro SL5220.重点给出了MicroSLer中经薄膜晶体管阵列编址的液晶显示光阀表盘,也即可控透光模板的构造、性能及其对MicroSLer层面加工分辨率和截面曝光尺寸的影响.对比了MicroSLer的国产配套光敏树脂Micro SL5220与国外同类产品DSM7110型光敏树脂的各项技术指标.为证明一次曝光型微立体光刻工艺在成型3维复杂微结构时的优越性,给出了经MicroS
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