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发展了一种以＂二次刻蚀＂技术制备玻璃微-纳流控芯片的新方法.首先,采用紫外光刻和化学湿法刻蚀技术在玻璃基片上加工微米深度的微通道;去除剩余的光胶后,在刻有微通道的基片上旋涂一层新的光胶;再通过二次紫外光刻和湿法刻蚀在该基片上加工深度小于100 nm的纳通道;最后,采用室温键合技术,将带有微纳结构的基片与盖片封合制成玻璃微-纳流控复合芯片.利用本方法可以在普通化学实验室以简易的设备制得具有微-纳米复合结构的玻璃芯片.将此玻璃微-纳流控复合芯片成功地应用于以电动离子捕集技术富集荧光素钠异硫氰酸酯（FITC）标