Simulation of Temperature Distribution in Hot Filament Chemical Vapor Deposition Diamond Films Growt

来源 :Journal of Shanghai Jiaotong University(Science) | 被引量 : 0次 | 上传用户:mayi2800
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In this study, the temperature and gas velocity distributions in hot filament chemical vapor deposition(HFCVD) diamond film growth on the end surfaces of seals are simulated by the finite volume method. The influence of filament diameter, filament separation and rotational speed of the substrates is considered. Firstly,the simulation model is established by simplifying operating conditions to simulate the temperature and gas velocity distributions. Thereafter, the deposition parameters are optimized as 0.6 mm filament diameter, 18 mm filament separation and 5 r/min rotational speed to get the uniform temperature distribution. Under the influence of the rotational speed, the difference between temperature gradients along the directions perpendicular to the filament and parallel to the filament becomes narrow, it is consistent with the actual condition, and the maximum temperature difference on the substrates decreases to 7.4?C. Furthermore, the effect of the rotational speed on the gas velocity distribution is studied. Finally, diamond films are deposited on the end surfaces of Si C seals with the optimized deposition parameters. The characterizations by scanning electron microscopy(SEM) and Raman spectroscopy exhibit a layer of homogeneous diamond films with fine-faceted crystals and uniform thickness. The results validate the simulation model. In this study, the temperature and gas velocity distributions of the gas velocity distribution of the substrates It is considered as a simplification of operating conditions to simulate the temperature and gas velocity distributions. uniform temperature distribution. Under the influence of the rotational speed, the difference between temperature gradients along the directions decreases the substrate temperature to the substrates 7.4? C. Furthermore, the effect of the rotational speed on the gas Finally, diamond films are deposited on the end surfaces of Si C seals with the optimized deposition parameters. The characterizations by scanning electron microscopy (SEM) and Raman spectroscopy exhibit a layer of homogeneous diamond films with fine-crystallized crystals and uniform thickness. The results validate the simulation model.
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