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氮化硅薄膜的制备方法及主要应用
氮化硅薄膜的制备方法及主要应用
来源 :材料导报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lingshao2009
【摘 要】
:
氮化硅薄膜具有优良的光电性能、绝缘耐压性能、机械性能以及钝化性能等,在光电子、微电子等大规模集成电路和半导体器件制造中有着广泛的应用。重点评述了制备氮化硅薄膜的几
【作 者】
:
张化福
祁康成
吴健
【机 构】
:
电子科技大学光电信息学院
【出 处】
:
材料导报
【发表日期】
:
2004年F10期
【关键词】
:
氮化硅薄膜
应用
制备方法
大规模集成电路
半导体器件
光电性能
耐压性能
机械性能
常用方法
主要性能
光电子
微电子
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氮化硅薄膜具有优良的光电性能、绝缘耐压性能、机械性能以及钝化性能等,在光电子、微电子等大规模集成电路和半导体器件制造中有着广泛的应用。重点评述了制备氮化硅薄膜的几种常用方法,并介绍了氮化硅薄膜的主要性能及其应用。
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