【摘 要】
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为了改善GaN HEMT的自热效应,集成高热导率的金刚石衬底有助于增强器件有源区的热量耗散.然而,化学气相淀积(CVD)生长的多晶金刚石(PCD)具有柱状晶粒结构,导致了各向异性的材料热导率,且其热导率值与生长厚度有关.为此,通过建模金刚石生长过程中晶粒尺寸的演变过程,计算了金刚石沿面内和截面方向的热导率.基于该PCD热导率模型,利用计入材料非线性热导率的GaN器件热阻解析模型,计算得到了GaN HEMT沟道温度的波动范围,并分析了其与器件结构(栅长、栅宽、栅间距、衬底厚度)和功耗的依赖关系.最后,通过与
【机 构】
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西安理工大学电子工程系,西安 710048;西安电子科技大学宽带隙半导体材料教育部重点实验室,西安 710071;西安市电力电子器件与高效电能变换重点实验室,西安 710048;西安理工大学电子工程系
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为了改善GaN HEMT的自热效应,集成高热导率的金刚石衬底有助于增强器件有源区的热量耗散.然而,化学气相淀积(CVD)生长的多晶金刚石(PCD)具有柱状晶粒结构,导致了各向异性的材料热导率,且其热导率值与生长厚度有关.为此,通过建模金刚石生长过程中晶粒尺寸的演变过程,计算了金刚石沿面内和截面方向的热导率.基于该PCD热导率模型,利用计入材料非线性热导率的GaN器件热阻解析模型,计算得到了GaN HEMT沟道温度的波动范围,并分析了其与器件结构(栅长、栅宽、栅间距、衬底厚度)和功耗的依赖关系.最后,通过与有限元(FEM)仿真结果对比,分区域提取了GaN HEMT器件中PCD衬底的有效热导率,分别为260~310 W/(m·K)和1250~1450 W/(m·K).本文的计算为预测金刚石衬底上GaN HEMT器件的沟道温度提供了快速、有效的方法.
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采用基于密度泛函理论的第一性原理赝势平面波方法,研究了Ti掺杂对Li2 MgN2 H2材料储氢性能的影响及作用机理,计算给出了杂质替换能、生成焓、能带结构、态密度、差分电荷密度及布居等.研究表明,Ti掺杂Li2 MgN2 H2体系时,其倾向于替换其中的Mg原子,且当替换8c位置的Mg时,杂质替换能最低,晶体结构最为稳定.生成焓计算结果表明,Ti掺杂能够有效降低Li2 MgN2 H2的结构稳定性,有利于其吸氢反应的进行.进一步结合电子结构分析发现,Ti掺杂使得Li2 MgN2 H2材料的晶胞体积增大,能隙降
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