光学光刻仍是下一代ULSI规模生产的主导光刻技术

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本文从工业化生产的观点,对各种光刻技术进行ULSI规模生产的能力及问题给以简要比较说明,提出发展光学光刻技术作为下一代0.35μm和0.25μmULSI工业化生产的主导光刻技术,是光刻技术本身发展和半导体工业发展的必然。 This article from the industrial production point of view, a variety of lithography ULSI-scale production capacity and problems to give a brief comparison shows that the development of optical lithography technology as the next generation 0.35μm and 0.25μmULSI industrial production of the dominant lithography technology is Lithography technology itself and the development of the semiconductor industry is inevitable.
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