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建立了带有外加磁场和离子溅射二次电子的离子推力器中和器壁面鞘层模型，通过采用四阶龙格库塔方法，研究了带有二次电子发射条件下的磁鞘结构特性。计算结果显示，磁场大小和角度的变化都会对壁面鞘层产生显著影响。二次电子的引入使得计算结果曲线更加光滑，二次电子对电子的计算结果影响显著而对离子影响甚微。此外，壁面外加电势的大小是引发鞘层厚度大小变化的主要原因，从而很大程度上影响了壁面参数的变化。