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Effect of Frequency and Power of Bias Applied to Substrate on Plasma Property of Very-High-Frequency
Effect of Frequency and Power of Bias Applied to Substrate on Plasma Property of Very-High-Frequency
来源 :黑龙江科技学院学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qingshuiyilian
【摘 要】
:
为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7
【作 者】
:
LIU Yi
YE Chao
HE Haijie
WANG
【机 构】
:
College of Physics, Optoelectronics and Energy, Soochow University, Suzhou 215006, China“,”Key Labor
【出 处】
:
黑龙江科技学院学报
【发表日期】
:
2015年7期
【关键词】
:
VHF magnetron sputtering
RF substrate bias
ion energy distribution
electron ener
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为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7<
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