HfO2/SiO2薄膜缺陷及激光损伤特性分析

来源 :激光与光电子学进展 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lfwvb
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用台阶仪、Normaski和原子力显微镜图貌分析了与HfO<,2>/SiO<,2>薄膜激光损伤密切相关的表面微结构缺陷节瘤、划痕和孔洞等缺陷的形态结构.用脉宽10ns的1064nm激光进行了损伤实验,研究了各种缺陷与激光损伤能流密度的对应关系,以及激光损伤创面的图貌特性,比较了高反、增透和偏振膜激光损伤特性的差异.
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