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采用直流磁控溅射法制备了WO3薄膜，并在350—550℃时对薄膜进行退火处理，研究了退火温度对薄膜结构及气敏性能的影响。结果表明：退火前及350℃退火后的薄膜为非晶态，450℃和550℃退火后的薄膜为WO3-x型晶态；随退火温度的提高，薄膜厚度增加，晶粒度增大。550℃退火后薄膜的厚度，较450℃退火后薄膜厚30nm，晶粒度相差8nm；450℃和550℃退火后的薄膜，在150℃时对体积分数为0．05％的NO2的灵敏度接近于22。