【摘 要】
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本文讨论了在硅或砷化镓等半导体衬底材料上,采用乙二胺-亚硫酸盐无氰镀金电解液制作金热沉的应用情况。测量了镀层的残余应力。采用正交试验法研究了电解液的组成及操作条件
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本文讨论了在硅或砷化镓等半导体衬底材料上,采用乙二胺-亚硫酸盐无氰镀金电解液制作金热沉的应用情况。测量了镀层的残余应力。采用正交试验法研究了电解液的组成及操作条件对镀层显微硬度和残留应力的影响。
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