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近年来，电子信息类产品在不断地追求着高性能化，印刷电路板也随之高密度、微线化。紫外线曝光机是印制板制造工艺中的重要设备，而光学曝光作为PCB制作工艺过程中的一个重要环节对光照度的均匀性要求比较严格，现应用非成像光学的设计方法，实现了一种新型的曝光机均匀照明系统，并使用基于蒙特卡罗法的光线追迹软件对该光学系统进行了模拟仿真。实验表明，采用该研究设计的照明系统能够改善PCB曝光机紫外照明光源的配光性能，光强分布均匀稳定、能够满足光学曝光过程对光源的指标要求，具有可操作性。