【摘 要】
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本文主要介绍,经适当的热处理,使硅片内部具有吸除表面层的杂质和缺陷的技术及吸除效果的检验方法.同时也简要地介绍了吸除技术在集成电路中的应用.
This article mainly in
【机 构】
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陕西临潼骊山微电子学研究所,陕西临潼骊山微电子学研究所
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本文主要介绍,经适当的热处理,使硅片内部具有吸除表面层的杂质和缺陷的技术及吸除效果的检验方法.同时也简要地介绍了吸除技术在集成电路中的应用.
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