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采用磁控溅射技术制备了优良的NiCr系深蓝色太阳光谱选择性吸收薄膜,测试了样品的太阳吸收比和热发射比,αs=0.90～0.94,ε=0.08～0.16(80℃).用椭偏法测量了两层膜系的光学常数,借助扫描电镜、透射电镜、X射线衍射对薄膜进行了表征,并初步讨论了溅射工艺对样品结构形貌和光学性能的影响.