【摘 要】
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日立高新技术公司发布了FEB(场发射电子束)测长装置的新产品——CD-SEM CG6300测长仪,可满足7nm工艺元件开发和10nm工艺元件量产的工艺控制需求。与原CG5000机型产品相比,该
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日立高新技术公司发布了FEB(场发射电子束)测长装置的新产品——CD-SEM CG6300测长仪,可满足7nm工艺元件开发和10nm工艺元件量产的工艺控制需求。与原CG5000机型产品相比,该新型测长仪采用了新的电子光学系统,提高了分辨率,具有良好的测长重复性。其电子显微镜镜体可根据计测对象选择由材料检测出
Hitachi High-Technologies Launches CD-SEM CG6300 Length Measuring Instrument, a new product of the FEB (Field Emission Electron Beam) length measuring device, which meets the process control requirements of developing 7nm process components and 10nm process components. Compared with the original CG5000 models, the new length measuring instrument incorporates a new electronic optical system that improves the resolution and has good length repeatability. The electron microscope can be selected according to the measurement of objects detected by the material
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