汞退火对分子束外延生长的HgCdTe电学特性的影响

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在测量霍尔效应时,用分子束外延(MBE)生长的Hg_(1-x)Cd_xTe膜层常表现出异常的电导特性,通过在汞气氛中退火,能明显消除这种现象,并转变为均匀的p型导体。用霍尔效应测量表征的膜层来研究退火对它的影响。本文给出了退火后p型膜层中迁移率与Cd组份x值和受主能级的关系。 Hg_ (1-x) Cd_xTe films grown by molecular beam epitaxy (MBE) often exhibit anomalous conductivity characteristics when measuring Hall effect, which can be significantly eliminated by annealing in a mercury atmosphere and converted to Uniform p-type conductor. The Hall effect was used to characterize the film to investigate the effect of annealing on it. In this paper, the relationship between the mobility and the x value and acceptor level of Cd component in the p-type film after annealing is given.
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