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随着半导体工艺的不断发展,其对设备颗粒度的要求越来越高,文章分析了沾污产生的原因及出处,并对各种沾污进行了分析,并指出了解决方向,在很大程度上指导了半导体生产和研发环境的建立及完善。
半导体化学清洗沾污来源分析
【摘 要】
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随着半导体工艺的不断发展,其对设备颗粒度的要求越来越高,文章分析了沾污产生的原因及出处,并对各种沾污进行了分析,并指出了解决方向,在很大程度上指导了半导体生产和研发
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十五研究所
【出 处】
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科技创新与应用
【发表日期】
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2014年04期
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