【摘 要】
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基于蓝宝石衬底InAlN/GaN异质结材料研制具有高电流增益截止频率(fT)和最大振荡频率(fmax)的In-AlN/GaN异质结场效应晶体管(HFETs).基于再生长n+ GaN欧姆接触工艺实现了器件
【机 构】
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河北半导体研究所专用集成电路国家级重点实验室,河北石家庄,050051
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基于蓝宝石衬底InAlN/GaN异质结材料研制具有高电流增益截止频率(fT)和最大振荡频率(fmax)的In-AlN/GaN异质结场效应晶体管(HFETs).基于再生长n+ GaN欧姆接触工艺实现了器件尺寸的缩小,有效源漏间距(Lsd)缩小至600 nm.此外,采用自对准栅工艺制备60 nm T型栅.由于器件尺寸的缩小,在Vgs=1V时,器件最大饱和电流(Ids)达到1.89 A/mm,峰值跨导达到462 mS/mm.根据小信号测试结果,外推得到器件的fT和fmax分别为170 GHz和210 GHz,该频率特性为国内InAlN/GaN HFETs器件频率的最高值.
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