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众所周知，纳米SiO2材料具有高韧性、耐高温、耐磨等特性，由于其产量高，工艺成熟，性能优异，已成为复合材料制备过程中广泛应用的填充物质，在高分子领域应用广泛。我国是继美、英、日、德之后，第五个能批量生产此产品的国家。但纳米SiO2颗粒尺寸小，比表面积大，表面存在大量不饱和残键及不同键合状态的羟基，因而很易相互产生氢键作用而团聚，在聚合物中这种团聚将会导致材料的机械性能、稳定性和透光家下降，因而必须对其表面进行改性处理。