射频磁控反应溅射制备TiO_2薄膜

来源 :苏州大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：yczhudong

【摘要】

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研究采用射频磁控溅射的方法在石英玻璃基片上制备TiO2薄膜的最佳工艺条件.薄膜的相组成和微观组织分别采用XRD、SEM和AFM来分析.实验表明：在450℃的基片温度下,使用0.8 Pa的

【作者】

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陈浩李金泽厉以宇苏晓东

【机构】

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温州医学院眼视光学与视觉科学国家重点实验室培育基地,苏州大学物理科学与技术学院江苏省薄膜材料重点实验室

【出处】

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苏州大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2010年2期

【关键词】

：

TIO2薄膜射频磁控溅射光催化 TiO2 film RF magnetron reactive sputtering photocatalysis

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研究采用射频磁控溅射的方法在石英玻璃基片上制备TiO2薄膜的最佳工艺条件.薄膜的相组成和微观组织分别采用XRD、SEM和AFM来分析.实验表明：在450℃的基片温度下,使用0.8 Pa的工作气压和20∶2的Ar∶O2流量比可以获得单一锐钛矿相的TiO2薄膜.紫外光照射分解甲基橙的实验表明具有单一锐钛矿相的TiO2薄膜具有较好的光催化能力,可以有效降解有机分子.

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