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射频集成电路的研究和制作将大大拓展集成电路的应用空间。本文介绍了当今RF设计的主流工艺 ,并分别对基于硅的深亚微米CMOS工艺在RF设计中的可行性和困难进行了研究 ,评述了其中存在的问题。最后提出了该领域中未来的发展前景
RF集成电路工艺探讨
【摘 要】
：
射频集成电路的研究和制作将大大拓展集成电路的应用空间。本文介绍了当今RF设计的主流工艺 ,并分别对基于硅的深亚微米CMOS工艺在RF设计中的可行性和困难进行了研究 ,评述了
【机 构】
：
东南大学
【出 处】
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电子器件
【发表日期】
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2002年02期
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