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诺发系统有限公司日前宣布开始销售用于生产的在VECTOR Express^TM等离子增强化学气相沉积(PECVD)平台上实现的可灰化硬掩模(AHM?)工艺技术,目前这项技术正在申请专利。VECTOR Express平台上的AHM工艺可应对高阶技术节点应用的挑战,相对于传统的非晶碳膜工艺实现了巨大的技术突破,可支持193nm高深宽比图形的蚀刻要求,