【摘 要】
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作为一种特殊的化学气相沉积技术,原子层沉积在薄膜制造领域得到广泛的应用.得益于自限制化学反应,原子层沉积所制备的薄膜具有优异的均匀性且精确可控.基于原子层沉积技术,
【出 处】
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Science China.Materials
【基金项目】
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financially supported by the National Natural Science Foundation of China (51822501);the Natural Science Funds for Distinguished Young Scholar of Jiangsu Province (BK20170023);the Fundamental Resear
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作为一种特殊的化学气相沉积技术,原子层沉积在薄膜制造领域得到广泛的应用.得益于自限制化学反应,原子层沉积所制备的薄膜具有优异的均匀性且精确可控.基于原子层沉积技术,在复杂、大面积基底上制备的薄膜厚度可以控制在原子尺度精度（0.1 nm）.因此,它已经被用来制备二维MoS2材料.本综述首先介绍了原子层沉积MoS2薄膜的相关研究进展,然后就前驱体、衬底、温度和退火等工艺参数对薄膜质量的影响进行了分析,最后对原子层沉积制备的MoS2在电化学催化领域的应用进行了评论.该综述不仅回顾了原子层沉积MoS2的研究进展,而且指出了尚存的挑战和突破的希望.
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