Te掺杂n型GaAs材料的光致发光研究

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对Te掺杂n型GaAs材料在300~60K之间的辐射复合进行光致发光(PL)研究。用发射波长为510.6nm和578.2nm的溴化亚铜激光器为激发光源。在所选取的狭缝宽度下谱仪的分辨率约为2nm。所提供的数据全部经过系统灵敏度校正并进行分峰拟合。对PL谱中一些主要特征进行讨论,认为T1,T2,T3三个发射带分别对应着导带价带(T1)和施主受主(T2,T3)的跃迁,它们随温度变化的情况与带隙宽度及电子填充状态随温度变化有关。此外,还注意到PL谱的长波端(~950nm)呈上扬趋势,表明可能在低能区域存在一个与深能级复合有关的宽发射带
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