【摘 要】
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(一)实验 1.620℃低温退火对单晶缺陷的影响 620℃下1h,用OS法对比退火与非退火单晶。 2.停炉条件的影响 单晶收尾后以38.1cm/h的速度,提升30min后取出;单晶收尾后以25.4cm/
【机 构】
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(一)实验 1.620℃低温退火对单晶缺陷的影响 620℃下1h,用OS法对比退火与非退火单晶。 2.停炉条件的影响 单晶收尾后以38.1cm/h的速度,提升30min后取出;单晶收尾后以25.4cm/h的速度,提升1h后取出,对比这两种条件下的单晶。
(A) Experiment 1.620 ℃ low temperature annealing on the single crystal defects 620 ℃ 1h, compared with the OS method annealed and non-annealed single crystal. 2. The effect of shutdown conditions Single crystal after the end of the speed of 38.1cm / h, 30min after lifting out; single crystal after the end of 25.4cm / h speed, lift 1h removed, compared to the two conditions of single crystal .
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