电子回旋共振等离子体技术新进展

来源 :西安电子科技大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cnforyou2009
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叙述了电子回旋共振(ECR)微波等离子体技术的基本工作原理、主要特点以及发展概况,着重从ECR等离子体实验系统、工艺应用、诊断技术和机理研究等方面对ECR技术进行了讨论。由于ECR微波等离子体技术具有密度高、电离度大、工作气压低、表面损伤小等特点,在反应离子刻蚀(RIE)、等离子体化学气相淀积(CVD)和溅射方面具有广阔的应用前景。 The basic working principle, main features and development of ECR ​​plasma microwave plasma technology are described. The ECR technology is discussed in detail from ECR plasma experimental system, process application, diagnostic technology and mechanism research. Due to its high density, large ionization, low working pressure and small surface damage, ECR microwave plasma technology has a wide range of applications in reactive ion etching (RIE), plasma chemical vapor deposition (CVD) and sputtering prospect.
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