脉冲电沉积时间对纳米晶镍镀层微观结构和性能的影响

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采用脉冲电沉积法制备纳米晶镍镀层,利用扫描电镜、能谱仪、X射线衍射仪及显微硬度计对不同电沉积时间下制得的镍镀层的显微组织、微区成分、结构及力学性能进行表征分析。结果表明,不同电沉积时间下制得的镍镀层晶粒尺寸在21 nm小幅波动;随着电沉积时间的延长,纳米晶镍镀层的显微硬度存在先增大后缓慢降低的趋势,最大值为472 HV0.01,对应的电沉积时间为16 m in;纳米晶镍镀层的微观形貌为累积长大的胞状结构,电沉积时间为1~4 m in时,胞状结构表面密布着粒径为90 nm左右的二次纳米镍颗粒;本试验制得的纳米晶镍镀层失稳长大的起始温度为283.7℃,峰值温度为311.4℃。 Nanocrystalline nickel coatings were prepared by pulse electrodeposition. The microstructure, composition and structure of nickel coatings prepared by different electrodeposition time were studied by scanning electron microscopy, energy dispersive spectroscopy, X-ray diffraction and microhardness tester. Mechanical properties of the characterization analysis. The results show that the grain size of Ni coating prepared at different electrodeposition time fluctuates slightly at 21 nm. With the extension of electrodeposition time, the microhardness of nanocrystalline nickel coating first increases and then decreases slowly, and the maximum value 472 HV0.01, the corresponding electrodeposition time is 16 min. The microstructure of the nanocrystalline nickel coating is a cumulated cellular structure. When the electrodeposition time is 1 ~ 4 mins, the surface of the cell structure is covered with a particle size Is about 90 nm secondary nano-nickel particles; nanocrystalline nickel coating obtained in this experiment instability growth of the initial temperature of 283.7 ° C, the peak temperature of 311.4 ° C.
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