强磁场下化学镀Ni-P镀层的制备及其热稳定性研究

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在化学镀过程中施加强磁场法,使Ni-P镀层的热稳定性得到提高。通过XRD和DSC分析,发现在0、4T条件下获得的Ni-P镀层均为磷在镍晶格的过饱和固溶体结构。通过在真空加热炉内将化学镀Ni-P镀层加热至200、300、350℃,并保温1h的热处理法考察其热性能。在200℃以下,4T强磁场下化学镀获得的Ni-P镀层热稳定性较无磁场条件下化学镀获得的Ni-P镀层高。 In the electroless plating process applied strong magnetic field method, the thermal stability of Ni-P coating is improved. By XRD and DSC analysis, it is found that the Ni-P coatings obtained at 0,4 T are supersaturated solid solutions of phosphorus in the nickel lattice. The thermal performance of the electroless Ni-P coating was investigated by heat treatment in a vacuum furnace heated to 200, 300 and 350 ℃ for 1h. The thermal stability of Ni-P coatings obtained by chemical plating at 4T under a magnetic field of 200 ℃ is higher than that of Ni-P coatings obtained by electroless plating under no magnetic field.
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