【摘 要】
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以煤系高岭土(CK)、双氰胺为原料,采用热聚合法制得g-C3N4/煤系高岭土(g-C3N4/CK)复合材料,并用于光催化氧化As(Ⅲ).通过XRD、SEM、UV-DRS、PL光谱等分析手段对g-C3N4/CK复合
【机 构】
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华北科技学院化学与环境工程学院,北京101601;中国矿业大学(北京)化学与环境工程学院,北京100083;阳泉煤业(集团)有限责任公司三矿选煤厂,山西阳泉045000;大同煤矿集团有限责任公司精煤分
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以煤系高岭土(CK)、双氰胺为原料,采用热聚合法制得g-C3N4/煤系高岭土(g-C3N4/CK)复合材料,并用于光催化氧化As(Ⅲ).通过XRD、SEM、UV-DRS、PL光谱等分析手段对g-C3N4/CK复合材料进行表征.结果表明,g-C3N4与CK复合后改善了g-C3N4片层团聚状态,抑制了光生电子和空穴的复合,具有更强的光催化氧化As( Ⅲ)能力.在所构造的复合催化剂中,g-C3N4/CK-15％光催化氧化As(Ⅲ)效果最佳,在光照210min的条件下,As(Ⅲ)的氧化率可达90.54％;g-C3N4/CK-15％稳定性较佳,循环使用4次后仍有较强的光催化氧化能力.机理分析结果表明,空穴和超氧自由基是As( Ⅲ)氧化的主要活性基团.
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