TiN 类薄膜的激光化学汽相沉积

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在Ti和Ti合金表面镀上一层薄膜以提高它的硬度、耐磨性及耐蚀性等是很有意义的。研究了用激光化学汽相沉积的方法在Ti和Ti-6Al-4V基体材料上沉积TiN、TiC、Ti(C.N)薄膜的工艺,并获得了良好膜层的最佳工艺。在低压下用激光化学汽相沉积(LCVD)方法制备成功的TiN类薄膜颜色金黄,成份均匀,其平均显微硬度为2500HK,耐磨性比基体材料提高6倍。 Plating a thin film on the Ti and Ti alloy surfaces to increase its hardness, abrasion resistance and corrosion resistance makes sense. The process of depositing TiN, TiC and Ti (C.N) thin films on Ti and Ti-6Al-4V substrates by laser chemical vapor deposition was studied and the best process of good film layer was obtained. The successful TiN film prepared by laser chemical vapor deposition (LCVD) method at low pressure has a golden color and uniform composition with an average microhardness of 2500HK and a wear resistance of 6 times higher than that of the base material.
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