【摘 要】
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脉冲化学镀是指在化学镀上叠加脉冲电流。本文研究了脉冲电参数(脉冲电流密度与工作比)对镀层的成分、性能和沉积速度的影响。研究结果表明,采用脉冲化学镀可在保持化学镀镍
【机 构】
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北京科技大学表面科学与腐蚀工程系rrrrrrrrn,北京科技大学作者系化学系rrrrrrrrn,北京科技大学表面科学与腐蚀工程系
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脉冲化学镀是指在化学镀上叠加脉冲电流。本文研究了脉冲电参数(脉冲电流密度与工作比)对镀层的成分、性能和沉积速度的影响。研究结果表明,采用脉冲化学镀可在保持化学镀镍磷合金性能的同时,使沉积速度加快数倍,并发现脉冲电流对自催化的化学沉积镍过程起促进作用。
Pulse electroless plating refers to the superimposed pulse current in electroless plating. In this paper, the influence of pulse electric parameters (pulse current density and working ratio) on the composition, properties and deposition rate of the coating has been studied. The results show that the use of pulsed electroless plating can accelerate the deposition rate several times while maintaining the performance of the electroless Ni-P alloy and found that the pulsed current can promote the autocatalytic electroless nickel deposition process.
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