【摘 要】
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用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)法沉积氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.俄歇电子能谱分析表明,制备的碳膜为典型的类金刚石结构.接触角测量仪测量了沉积在玻璃基底上的F-
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用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)法沉积氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.俄歇电子能谱分析表明,制备的碳膜为典型的类金刚石结构.接触角测量仪测量了沉积在玻璃基底上的F-DLC薄膜的接触角,采用傅里叶红外分析了薄膜价键结构,原子力显微镜分析了薄膜表面粗糙度;结果表明,氟的掺入稳定了弱极化基团CF2的含量,同时使得薄膜表面平整,薄膜与水的浸润性变差,改善了薄膜疏水性能.研究表明,流量比、沉积温度、退火温度、沉积功率对接触角的影响是先增后减,这主要是由于CF2含量和薄膜表面粗糙度的变化造成的.
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