低阻值永久阴极的开发

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阴极铜的电积精炼和电解精炼中,永久不锈钢阴极的使用已成为了一种普遍接受的技术。作为该技术的开发者,艾萨工艺技术公司(IPT)多年来不断改进这一技术,并维持领先地位。迫于市场对提高阴极铜生产效率的压力增加,IPT认识到了开发更高效阴极板的必要性。为适应市场的需求,IPT现在已开发出了一种低阻值阴极板(艾萨阴极BRTM)。艾萨阴极BRTM通过减少铜镀层末端和溶液线的距离,提供了更低的电阻。汤斯维尔艾萨电解精炼厂和智利的一家主要的电积精炼厂所做的试验,证实了新型阴极BRTM的性能。最新结果表明,采用艾萨阴极BRTM,可以明显节约生产成本。 The use of a permanent stainless steel cathode has become a commonly accepted technique in cathodic copper electrodeposition and electrolytic refining. As a developer of this technology, Isa Technology Corporation (IPT) has continuously improved this technology and maintained its lead over the years. Under pressure from the market to increase cathode copper production efficiency, IPT recognized the need to develop more efficient cathode plates. To meet the needs of the market, IPT has now developed a low-resistance cathode plate (Isa cathode BRTM). AISA cathode BRTM provides lower resistance by reducing the distance between the end of the copper plating and the solution line. Trials at the Townsville Aisa Electrolysis Refinery and a major electrowinning refinery in Chile confirmed the performance of the new cathode BRTM. The latest results show that the use of ISA cathode BRTM, can significantly reduce production costs.
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