【摘 要】
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化学汽相沉积(CVD)技术和化学相沉积材料在电子管制造中正在获得愈来愈广泛的应用。本文扼要介绍化学汽相沉积的原理和基本类型,沉积装置的基本形式,影响沉积质量的某些工艺
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化学汽相沉积(CVD)技术和化学相沉积材料在电子管制造中正在获得愈来愈广泛的应用。本文扼要介绍化学汽相沉积的原理和基本类型,沉积装置的基本形式,影响沉积质量的某些工艺因素,以及化学汽相沉积技术的优缺点。举例介绍化学汽相沉积石墨、钨和氮化硼材料的制备方法、性能、及其在电子管制造中的某些应用。
Chemical vapor deposition (CVD) technology and chemical deposition materials are gaining more and more widespread use in the manufacture of electronic tubes. This article outlines the principles and basic types of chemical vapor deposition, the basic form of deposition apparatus, some of the process factors that affect deposition quality, and the advantages and disadvantages of chemical vapor deposition techniques. Examples of chemical vapor deposition of graphite, tungsten and boron nitride material preparation, performance, and some of its applications in the manufacture of electronic tubes.
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