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溅射沉积温度对薄膜生长影响的计算机模拟
溅射沉积温度对薄膜生长影响的计算机模拟
来源 :天津理工大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hjpy1986
【摘 要】
:
利用Monte Carlo方法对薄膜生长过程进行计算机模拟.模型针对粒子的沉积、吸附及粒子的扩散等过程,研究了粒子允许行走的最大步数对薄膜生长形貌的影响.结果表明:随温度升高,
【作 者】
:
李化鹏
孙大智
于春花
陈希明
杨保和
【机 构】
:
天津理工大学电子信息与通信工程学院
【出 处】
:
天津理工大学学报
【发表日期】
:
2007年3期
【关键词】
:
MONTE
CARLO方法
计算机模拟
薄膜生长
分形
Monte Carlo method
computer simulation
thin films
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利用Monte Carlo方法对薄膜生长过程进行计算机模拟.模型针对粒子的沉积、吸附及粒子的扩散等过程,研究了粒子允许行走的最大步数对薄膜生长形貌的影响.结果表明:随温度升高,粒子行走步数增加,薄膜的生长经历了从分散到分形团聚的过程;在粒子行走步数越小的情况下,薄膜越易趋向于分散生长.
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