“出现温度”概念及在考察原子化机理过程中的应用

来源 :光谱学与光谱分析 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lucky198411
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在热解涂层石墨管和涂钽石墨管内,对影响欲测样品处管壁温度的因素进行考察,首次给出了“出现温度”概念较为严格的定义。测得铜系列样品的出现温度在1050℃—1100℃范围内。我们观察到这些物质在半封闭型原子化器内的原子化过程中的速率控制步骤是相同的。 In the pyrolytic coated graphite tube and the tantalum coated graphite tube, the factors that affect the wall temperature of the sample to be measured are investigated. For the first time, the definition of the “appearance temperature” is more strictly defined. Measured copper series samples appear in the temperature range of 1050 ℃ -1100 ℃. We observe that the rate-controlling steps in the atomization of these materials in the semi-closed atomizer are the same.
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