【摘 要】
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在Ｍｇ注入形成的ｐ型ＧａＡｓ材料上，用预热和快速两步退火方式形成ｐ型欧姆接触，用传输线方法（ＴＬＭ）测量比接触电阻，得到最佳值３．７３×１０－５Ω·ｃｍ２，用在ＡｌＧａＡｓ／ＧａＡｓＨＢＴ器件上，性能良好。
On the p-type GaAs material formed by
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在Ｍｇ注入形成的ｐ型ＧａＡｓ材料上，用预热和快速两步退火方式形成ｐ型欧姆接触，用传输线方法（ＴＬＭ）测量比接触电阻，得到最佳值３．７３×１０－５Ω·ｃｍ２，用在ＡｌＧａＡｓ／ＧａＡｓＨＢＴ器件上，性能良好。
On the p-type GaAs material formed by Mg implantation, a p-type ohmic contact was formed by a preheating and a rapid two-step annealing method, and the specific resistance was measured by the transmission line method (TLM) to obtain an optimum value of 3.73 × 10 -5 Ω · cm 2 , Used in AlGaAs / GaAsHBT devices, good performance.
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