芬兰阿尔托大学和Okmetic公司合作展现绝缘体上硅(SOI)基氮化镓在功率电子应用中的良好前景

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芬兰阿尔托大学和硅晶圆企业Okmetic公司合作,就以金属有机物气相外延(MOVPE)方式在6英寸绝缘体上硅(SOI)衬底上生长氮化镓(GaN)展开研究,证实SOI是实现功率电子器件具有前景的平台。背景 Aalto University of Finland, in collaboration with Okilicon, a silicon wafer company, conducted a study on the growth of gallium nitride (GaN) on a 6-inch silicon on insulator (SOI) substrate by metal-organic vapor phase epitaxy (MOVPE) Electronic devices have a platform for the future. background
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