【摘 要】
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低能宽束离子源是离子束沉积、刻蚀和表面改性系统的核心部件,综述了考夫曼、射频等离子体、电子回旋共振等离子体、无栅网等四种离子源的等离子体的产生方式,对结构重点进行
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低能宽束离子源是离子束沉积、刻蚀和表面改性系统的核心部件,综述了考夫曼、射频等离子体、电子回旋共振等离子体、无栅网等四种离子源的等离子体的产生方式,对结构重点进行了分析,并从参数性能上进行了比较。稳定性好、与反应气体兼容的特点使射频和电子回旋共振离子源在低能离子束系统中取得了广泛应用,由于结构简单,束散角大,无栅网离子源目前仅限应用于薄膜沉积和薄膜改性等。
The low-energy and wide-beam ion source is the core component of ion beam deposition, etching and surface modification systems. The plasma generation of Kaufman, RF plasma, electron cyclotron resonance plasma and gridless grid are summarized Way, the structural focus has been analyzed and compared from the parameters of performance. Good stability and compatibility with reaction gas make RF and electron cyclotron resonance source widely used in low energy ion beam system. Due to its simple structure and large beam divergence angle, gridless ion source is currently only used in thin film deposition And film modification.
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