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采用多弧离子镀技术在40Cr基体上制备TiAlN/TiN复合膜层;利用金相显微镜、扫描电子显微镜和显微硬度仪研究基体负偏压对膜层硬度的影响。结果表明：基体负偏压对膜层性能有显著影响,过高或过低的基体偏压会使得膜层表面不平整,表面显微硬度降低。基体负偏压越高,膜层中Ti、Al原子的含量就越低。
基体负偏压对TiAlN/TiN膜层组织成分及硬度的影响
【摘 要】
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采用多弧离子镀技术在40Cr基体上制备TiAlN/TiN复合膜层;利用金相显微镜、扫描电子显微镜和显微硬度仪研究基体负偏压对膜层硬度的影响。结果表明：基体负偏压对膜层性能有显著
【机 构】
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淮海工学院机械工程学院,江苏科技大学材料学院
【出 处】
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热加工工艺
【发表日期】
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2009年24期
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